Descripción del curso

Curso de Especialización del CSIC. El objetivo principal de este curso intensivo es ofrecer una formación especializada en el uso de métodos de análisis avanzados de difracción de rayos X de polvo. 

Se pretende que el alumno adquiera conocimientos y, fundamentalmente, práctica en métodos de ajuste de perfil sin y con modelo estructural dirigidos a aplicaciones de interés científico e industrial. Se hará especial énfasis en el análisis cuantitativo de fases cristalinas, cuantificación de fases amorfas, análisis microestructural y refinamiento por el método Rietveld. 

El curso estará centrado en el manejo del software TOPAS 7.0 y sus aplicaciones a la resolución de diferentes problemas de caracterización y análisis mediante difracción de polvo.

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Temario

Introducción a la difracción de polvo.
Preparación de muestras.
Introducción a TOPAS y método de parámetros Fundamentales (FP).
Ajustes de perfil individual y completo (WPPF). Método Pawley y Le Bail.
Correcciones angulares y de intensidad: Factor de polarización de Lorentz, microabsorción, orientación preferencial, error en el cero, etc.
Método Rietveld. Constraints y restraints.
Análisis cuantitativo de fases cristalinas (QPA) con el método Rietveld.
Métodos para cuantificar el contenido amorfo. Método PONCKS.
Análisis microestructural: Determinación de la función de resolución instrumental (IRF), evaluación del tamaño de cristalito (size) y microdeformaciones (strain).
Modo Launch en TOPAS.
Otras funcionalidades de TOPAS

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Requisitos

Este curso está orientado a diplomados, graduados o licenciados y doctores con experiencia e interés en la caracterización de materiales mediante difracción de rayos X de polvo.

Es aconsejable que el alumno tenga conocimientos básicos del método de difracción de rayos X de polvo y cristalografía.

Es necesario que cada alumno traiga su ordenador portátil personal con Windows 10 y con privilegios de administrador, para la instalación del software usado en el curso.